정보디스플레이학과 광전자공학 3차 준비 보고서 리소그라피 장비 종류 및 구동 방법

목차

1 PR coating
2 Exposure
3 Develop
4 Half tone(HF) 기술
5 Etching
6 참고 문헌

본문내용

리소그라피는 반도체 또는 TFT 제작 공정에서 감광제(PR)을 이용하여 증착된 막에 일정한 Pattern을 형성하는 공정으로, 증착과 세정 이후의 PR도포, 노광(Exposure), 현상(Develop)까지의 공정을 일컫는다. 추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. 일반적으로 a-Si의 경우 5 mask 공정이므로, 5번의 Photo 공정을 수행하게 된다.
1 PR coating
Coating 방법에는 Spin coating, Extrusion & Spin coating, Spinless 방식이 있으며, spin coating 방식을 기준으로 설명하면 아래와 같이 과정을 나눌 수 있다.

출처 : 해피캠퍼스